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        • SC1CIF-Spin Processor
          SC1CIF-Spin Processor

          CIF-Spin Processor轉速穩定、啟動迅速,旋涂均勻,操作簡單,結構緊湊實用,為實驗室提供了理想的解決方案。廣泛應用于微電子、半導體、新能源、化工材料、生物材料、光學,硅片、載玻片,晶片,基片,ITO 導電玻璃等工藝制版表面涂覆等。

          時間:2023-05-23型號:SC1訪問量:2340
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        • CIF-SEM掃描電鏡等離子清洗機
          CIF-SEM掃描電鏡等離子清洗機

          CIF 掃描電鏡(SEM)等離子清洗機采用遠程、原位雙等離子清洗源設計,并可自動切換,一機多用。遠程等離子體清洗快速高效低轟擊損傷,同時可實現常規等離子清洗。主要用于SEM或FIB等電鏡腔體內碳氫化合物的清洗。

          時間:2023-07-10型號:CIF-SEM訪問量:2599
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        • CPC-GCIF等離子清洗機G系列
          CPC-GCIF等離子清洗機G系列

          等離子清洗機也叫等離子清潔機,或者等離子表面處理儀,是一種全新的高科技技術,利用等離子體來達到常規清洗方法無法達到的效果。等離子體是物質的一種狀態,也叫做物質的第四態,并不屬于常見的固液氣三態。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態。等離子體的“活性”組分包括:離子、電子、原子、活性基團、激發態的核素(亞穩態)、光子等。

          時間:2023-07-10型號:CPC-G訪問量:4684
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        • PH18CIF烤膠機
          PH18CIF烤膠機

          CIF烤膠機采用智能程序化控溫技術,控溫精準均勻,加熱快速高效,維修簡單方便,控溫范圍在室溫-360℃之間,控溫精度達到0.1℃。適用于各種控溫精度高,加熱均勻性要求高的實驗室。

          時間:2023-06-15型號:PH18訪問量:1649
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        • CPC-B-13.56等離子表面處理儀
          CPC-B-13.56等離子表面處理儀

          CIF等離子表面處理儀不僅外觀設計美觀、而且內在質量過硬,產品性能穩定可靠,主要核心部件全部采用。等離子清洗機在材料學,光學,電子學,醫藥學,環境學、生物學等科研領域得了廣泛的應用,主要用于材料表面清洗、活化、沉積、去膠、刻蝕、接枝聚合、疏水、親水、金屬還原、去除有機物、鍍膜前處理、器械消毒等。

          時間:2023-06-15型號:CPC-B-13.56訪問量:2620
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        • CIFSpin Coater勻膠機
          CIFSpin Coater勻膠機

          Spin Coater勻膠機進行滴膠就是簡單地把光刻膠滴注到靜止的基片表面的中心,滴膠量為1-10ml不等。滴膠的多少應根據光刻膠的粘度和基片的大小來確定。粘度比較高和/或基片比較大,往往需要滴較多的膠,以保證在高速旋轉階段整個基片上都涂到膠。動態滴膠方式是在基片低速(通常在500轉/分左右)旋轉的同時進行滴膠,“動態”的作用是讓光刻膠容易在基片上鋪展開,減少光刻膠的浪費,采用動態滴膠不需要很多光刻膠就能潤濕(鋪展覆蓋)整個基片表面。尤其是當光刻膠或基片本身潤濕性不好的情況下,動態滴膠尤其適用,不會產生針孔。

          時間:2023-05-23型號:CIF訪問量:2632
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        • SC1CIF勻膠旋涂儀
          SC1CIF勻膠旋涂儀

          勻膠旋涂儀的真空泵一定要選用無油的,壓力標定準確,因為任何的油污都可能堵塞真空管道,如果真空吸附力降低,會導致基片吸附不住而產生“飛片”的情況,還會讓滴膠液不慎進入真空管道系統造成堵塞。用過國產勻膠機的客戶常常會關心怎么清洗的問題,這一點許多勻膠機都做得不錯,他們有通過聯動機制,如果真空吸附力不夠的時候,不會開始旋轉。

          時間:2023-06-15型號:SC1訪問量:6204
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        • UVO5CIF紫外臭氧清洗機
          UVO5CIF紫外臭氧清洗機

          紫外臭氧清洗機(UVO),是一種簡單,經濟,快速高效的材料表面清洗設備,能快速去除大多數無機基材(比如石英,硅片,金,鎳,鋁,砷化鎵,氧化鋁等)上的有機污染物。

          時間:2023-05-23型號:UVO5訪問量:4789
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