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        • L2005英國Ossila勻膠機
          L2005英國Ossila勻膠機

          Spin Coater,英國Ossila勻膠機,操作簡單,方便實用,旋涂均勻,結構小巧緊湊,為實驗室提供了理想的解決方案,其采用創新設計的非真空卡盤式旋涂吸盤,無需真空泵或充氮氣,就能達到很好的旋涂效果??蓪Υ笮〔煌幐竦幕亩伎蛇M行旋涂,尤其是對超薄樣品,即使基片厚度0.7毫米、0.55毫米、0.2毫米或更薄時同樣能達到旋涂效果。不會出現真空吸盤旋涂較薄的基材襯底翹曲現象,影響涂層的均勻性。

          時間:2023-06-15型號:L2005訪問量:1601
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        • L20002Ossila紫外臭氧清洗機
          L20002Ossila紫外臭氧清洗機

          英國Ossila紫外臭氧清洗機(UVO),是一種簡單,經濟,快速的材料表面清洗設備,只需把樣品放置到樣品盤上,關上艙門,設置時間,并按運行,就可以了,能快速去除大多數無機基材(比如石英,硅片,金,鎳,鋁,砷化鎵,氧化鋁等)上的有機污染物。特別是當基材和薄膜蒸鍍需要很好的粘接時,紫外清洗非常理想。要獲得超潔凈的表面,只需要在傳統清洗后,再用紫外臭氧清洗幾分鐘就可獲得!

          時間:2023-05-23型號:L20002訪問量:1808
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        • L20005Ossila勻膠旋涂儀
          L20005Ossila勻膠旋涂儀

          英國Ossila公司勻膠旋涂儀,方便實用,結構小巧緊湊,占地空間小,為實驗室提供了理想的解決方案,采用創新設計的旋涂盤,無需真空泵或充氮氣,就能達到很好的旋涂效果,操作簡單方便,旋涂均勻,可對大小不同規格的基片進行旋涂。 Ossila旋涂機內置調整水平裝置,Z大限度的保證旋涂均勻。

          時間:2023-05-23型號:L20005訪問量:1717
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        • L2002Ossila紫外臭氧清洗機
          L2002Ossila紫外臭氧清洗機

          Ossila紫外臭氧清洗機(UVO),是一種簡單,經濟,快速的材料表面清洗設備,只需把樣品放置到樣品盤上,關上艙門,設置時間,并按運行,就可以了,能快速去除大多數無機基材(比如石英,硅片,金,鎳,鋁,砷化鎵,氧化鋁等)上的有機污染物。特別是當基材和薄膜蒸鍍需要很好的粘接時,紫外清洗非常理想。要獲得超潔凈的表面,只需要在傳統清洗后,再用紫外臭氧清洗幾分鐘就可獲得!

          時間:2023-05-23型號:L2002訪問量:1919
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        • L2004A1Ossila公司接觸角測量儀
          L2004A1Ossila公司接觸角測量儀

          英國Ossila公司接觸角測量儀為科學家們提供了一種快速、可靠且簡便的測量液滴接觸角的方法。其價格經濟,形體小巧,PC軟件直觀、操作便捷,使更多的研究人員能夠快速進行這種多功能測量。廠家提供質保期2年。

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        • L2006英國Ossila浸漬提拉鍍膜機
          L2006英國Ossila浸漬提拉鍍膜機

          英國Ossila浸漬提拉鍍膜機性能,內置軟件,操作簡單,價格經濟,為科研領域工作者提供一款理想的適用于液相鍍膜制備而設計的精密儀器。目前在化學、材料科學的研究中,被廣泛應用于溶膠-凝膠(sol-gel)法薄膜材料制備。如硅片、晶片、玻璃、陶瓷、金屬等所有固體材料表面薄片材料鍍膜工藝,可以精準控制膜片提出速度,進而控制涂層厚度,保證良好重復性。提供2年的質保,為使用者提供更高的保障。

          時間:2023-05-23型號:L2006訪問量:1844
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        • L2001勻膠旋涂儀
          L2001勻膠旋涂儀

          英國Ossila公司勻膠旋涂儀,操作簡單,方便實用,旋涂均勻,結構小巧緊湊,為實驗室提供了理想的解決方案,其采用創新設計的非真空卡盤式旋涂吸盤,無需真空泵或充氮氣,就能達到很好的旋涂效果。勻膠旋涂儀可對大小不同規格的基材都可進行旋涂,尤其是對超薄樣品,即使基片厚度0.7毫米、0.55毫米、0.2毫米或更薄時同樣能達到旋涂效果。不會出現真空吸盤旋涂較薄的基材襯底翹曲現象,影響涂層的均勻性。勻膠旋涂儀廣泛應用于微電子、半導體、制版、新能源、生物材料、光學及表面涂覆等工藝。

          時間:2023-06-15型號:L2001訪問量:1717
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        • L2001英國Ossila Spin Processor
          L2001英國Ossila Spin Processor

          英國Ossila SpinProcessor,操作簡單,方便實用,旋涂均勻,結構小巧緊湊,為實驗室提供了理想的解決方案,其采用創新設計的非真空卡盤式旋涂吸盤,無需真空泵或充氮氣,就能達到很好的旋涂效果??蓪Υ笮〔煌幐竦幕亩伎蛇M行旋涂,尤其是對超薄樣品,即使基片厚度0.7毫米、0.55毫米、0.2毫米或更薄時同樣能達到完美的旋涂效果。不會出現真空吸盤旋涂較薄的基材襯

          時間:2023-05-23型號:L2001訪問量:1114
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